Разработки НИУ ИТМО улучшат разрешение фотолитографии

Дата публикации: 19.12.2013

Техника фотолитографии используется для создания рельефного рисунка микроэлектронных схем на поверхности полупроводниковых пластин. Это достигается с помощью химической реакции в светочувствительном веществе – фоторезисте.