Новости

Разработки НИУ ИТМО улучшат разрешение фотолитографии

Техника фотолитографии используется для создания рельефного рисунка микроэлектронных схем на поверхности полупроводниковых пластин. Это достигается с помощью химической реакции в светочувствительном веществе – фоторезисте.